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Reactive lon-Etcher
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    DISCRIPTION

    · Purpose : Etching

    · Pump : Rotary pump / Turbo pump

    · Base pressure : ~10(-6) Torr

    · Gas : Ar, O2, SF6, CF4

    · Power : RF(13.56MHz, 600W)

    · System control by touch panel

    · Automatic Pressure control

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